Fraunhofer IPMS erweitert 300-mm-Quantum-Technologieplattform für Entwicklung von CMOS-kompatiblen Quantenbauelementen

Das Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS hat seine
300-mm-Technologieplattform um eine hochflexible PVD-Anlage (Physical Vapor Deposition) erweitert und damit seine Kompetenzen bei der Entwicklung von CMOS-kompatiblen Materialien und Prozessen für Quantencomputer der nächsten Generation gestärkt. Die in Zusammenarbeit mit dem Hersteller Polyteknik installierte neue Plattform ermöglicht die Abscheidung und Optimierung supraleitender Dünnschichten auf 300-mm-Wafern unter produktionsnahen Halbleiterfertigungsbedingungen. Dies ist ein wichtiger Meilenstein auf dem Weg zur Etablierung einer europäischen Quantenforschungsfabrik.
Quelle: IDW-Informaitionsdienst d. Wissenschaft